Как и было обещано в конце лета, китайская компания Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) успела до конца года завершить разработку литографической машины, позволяющей производить чипы по 28-нанометровому техпроцессу. Это стало большим шагом по сравнению с предыдущими возможностями по выпуску 90-нм процессоров.
Анонс нового производственного оборудования вызывает ряд вопросов, поскольку сначала новость появилась в социальной сети WeChat от лица поддерживаемой государством компании Zhangjiang Group, которой принадлежит крупная часть акций SMEE. Однако затем сообщение отредактировали, удалив с него упоминание 28-нм техпроцесса, но оставив информацию, что SMEE стремится создавать передовые машины для литографии. Как бы то ни было, есть информация, что новая машина называется SSA/800-10W. Для сравнения, существующие машины серии SSA600 позволяют производить чипы по 90-нм, 110-нм и 280-нм техпроцессам.
Стоит отметить, что крупнейший в мире производитель полупроводников TSMC выпускает чипы по 28-нм техпроцессу с 2011 года, а китайская компания SMIC перешла на эту технологию в 2015 году. Но важно отметить, что обе эти фирмы используют разработки нидерландской компании ASML, тогда как SMEE из-за санкций запрещён к ним доступ.
Ранее эксперты отмечали, что разработка литографической машины с нуля в рамках одной страны — большое достижение. Для сравнения, та самая нидерландская ASML самостоятельно производит лишь 15% от всех компонентов для своих машин.
