Минувшей осенью представители Intel признались, что задержки с поставками так называемых EUV-сканеров заставят её отказаться от использования сверхжёсткого ультрафиолетового излучения при производстве микросхем не только в рамках 10-нм техпроцесса, но и в рамках 7-нм технологии. Опытные образцы 10-нм продукции компания обещала предоставить клиентам к концу 2015 г/, а о серийном выпуске можно будет говорить не ранее 2016 г.
Гонконгские коллеги с сайта Expreview имеют основания утверждать, что сбивающаяся с ритма фирменная модель “тик-так” не позволит компании Intel осуществить переход на 7-нм техпроцесс ранее 2018 г. Ранние планы компании подразумевали, что выпуск микросхем по этим технологическим нормам начнётся в 2017 г/ – хотя бы на уровне опытных образцов. Представители Intel уже вынуждены были признаться, что переход на 14-нм техпроцесс осуществлялся не так гладко, как хотелось бы. Чем “тоньше” техпроцесс, тем выше риск возникновения трудностей. Следовательно, и в будущем нельзя исключать задержек. Правда, на чём основаны эти ожидания, наши азиатские коллеги не поясняют. (Intel/NovostIT)
