Оно позволит выпускать 5-нм компоненты без привычной литографии.
Как сообщает TechSpot, японской компании Canon недавно удалось отгрузить американскому исследовательскому консорциуму TIE, который базируется в столице штата Техас, образец оборудования для выпуска передовых чипов методом нанопечати. В отличие от обычного литографического оборудования, которое позволяет получать необходимые конфигурации микросхем на кремниевой пластине методом проекции с использованием лазера, новое оборудование Canon просто формирует структуру буквально отпечатком матрицы.
Технически таким образом можно изготавливать чипы по литографическим нормам до 5 нм и меньше, причём делать это дешевле и с меньшими затратами электроэнергии, но данная методика пока имеет ряд недостатков. Мельчайшие частицы пыли способны вносить в изделия серьёзные дефекты, а ещё для работы с таким оборудованием требуются расходные материалы нового типа, выпуск которых в достаточных количествах только предстоит наладить. Впрочем, у метода есть ещё одно важное достоинство — он позволяет проще воспроизводить сложную пространственную структуру полупроводниковых элементов на чипе. В ближайшие годы Canon рассчитывает ежегодно поставлять на рынок от 10 до 20 единиц соответствующего оборудования для печати чипов.
