США: Intel планирует освоить 7-нм техпроцесс к 2017 году

0

Компания Intel любит подчёркивать своё лидерство в сфере литографических технологий, а потому редкий IDF обходится без очередных заявлений на тему “как далеко и безнадёжно отстали конкуренты”. Текущая сессия форума Intel для разработчиков не стала исключением. Президент компании Рене Джеймс во время своего выступления продемонстрировала слайд с текущей “дорожной картой” Intel по освоению новых технологических норм. Как сообщил ранее генеральный директор Брайан Кржанич, к производству первых 14-нм процессоров Broadwell компанияприступит до конца этого года, но в серийных продуктах мы увидим их только в следующем году.

Это заявление наглядно отражается в приведённом ниже слайде – годом освоения 14-нм норм Intel считает именно 2013 г. Через пару лет процессорный гигант рассчитывает освоить 10-нм нормы, а к 2017 г. будет покорён рубеж 7 нм. Словом, у Intel появляется очередной повод заявить, что так называемый закон Мура и сейчас живее всех живых – правда, с оговоркой, что компании удастся придерживаться намеченного графика в ближайшие годы.

Заметим, что конкурирующая TSMC освоит технологические нормы 10 нм к концу 2017 г., и только позднее перейдёт на 7 нм. Кстати, к тому времени отраслевые лидеры уже должны запустить фабрики, обрабатывающие кремниевые пластины типоразмера 450 мм. Увеличение диаметра пластины в полтора раза позволит не только увеличить объёмы выпуска микросхем, но и снизить их удельную себестоимость – при условии, что огромные вложения в технологическое переоснащение производства окупятся в разумные сроки. (Intel/NovostIT)