В последние дни упоминания о намерениях Intel выпустить 7-нм центральные процессоры чаще звучат в контексте неопределённости с выходом 10-нм процессоров для настольного применения. Возможно, какие-то комментарии относительно сроков перехода на 7-нм технологию мы услышим от представителей Intel на квартальном отчётном мероприятии, которое состоится на следующей неделе. Пока же уместно будет вспомнить ранние высказывания руководства Intel, согласно которым по уровню быстродействия 7-нм продукты этой марки не будут уступать изделиям конкурентов, выпускаемым по 5-нм технологии на мощностях TSMC.
Обсуждая на отчётных мероприятиях подготовку к переходу на 7-нм техпроцесс, представители Intel больше не скрывают, что в его рамках начнётся использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Из всех ведущих производителей полупроводниковых изделий именно Intel меньше всего говорит о специфике своего перехода на EUV-литографию, поскольку TSMC и Samsung заинтересованы в привлечении внимания к своим технологическим возможностям, а Intel обслуживает преимущественно собственные потребности.
На страницах ресурса EE Times появился содержательный материал, описывающий сроки внедрения EUV-литографии всеми тремя игроками полупроводникового рынка. TSMC уже использует до трёх слоёв, обрабатываемых при помощи EUV-литографии, при серийном производстве 7-нм продуктов второго поколения. Ко второй половине следующего года TSMC начнёт выпуск 5-нм продуктов, которые получат до 14-15 слоёв с использованием EUV-литографии. Промежуточный 6-нм техпроцесс на конвейер TSMC встанет к концу 2020 года, и он ограничится четырьмя слоями с EUV, считают эксперты Arete Research.
Samsung Electronics свою версию 7-нм технологии с применением EUV-литографии освоила в конце прошлого года, но пока все производственные квоты достаются либо самой Samsung, либо корпорации Qualcomm. В следующем году Samsung тоже может освоить 6-нм техпроцесс с применением EUV-литографии, а 5-нм технологии в исполнении южнокорейского гиганта придётся подождать до 2021 года, если верить прогнозам специалистов Arete Research.
Компания Intel, по мнению аналитиков, освоит 7-нм техпроцесс только в 2021 году, и количество обрабатываемых с помощью EUV-литографии слоёв не превысит 10 штук. Представители IC Insights напоминают, что первоначально Intel рассчитывала освоить 7-нм техпроцесс к 2017 году, но проблемы с 14-нм и 10-нм техпроцессом отбросили её достаточно далеко по сравнению с конкурентами. Эксперты Linley Group предполагают, что первые 7-нм продукты Intel не появятся ранее конца 2021 года. Если учесть, что первыми 7-нм изделиями Intel станут графический процессор и центральный процессор для серверного применения, то до потребительского сектора 7-нм технология доберётся не ранее 2022 года.
