На страницах ресурса EE Times появились комментарии представителей Intel, ответственных за освоение новых литографических технологий. По их словам, EUV-сканеры уже установлены на одном из предприятий Intel в США, где ведутся соответствующие разработки. Когда и на каких условиях Intel внедрит литографию со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением в серийном производстве, не уточняется, но из неофициальных источников известно, что это может случиться уже в рамках 7-нм техпроцесса первого поколения. В прошлом месяце представители Intel дали понять, что в 2021 году выйдет ускоритель вычислений на базе 7-нм графического процессора, а следом будет налажен выпуск 7-нм центральных процессоров для серверного применения. Соответственно, на эксперименты с EUV-литографией у Intel осталось не более двух лет.
TSMC и Samsung уже внедряют EUV-литографию, но первая сделает это после перехода на второе поколение 7-нм продуктов. В любом случае, производители внедряют этот тип литографии поэтапно, не более нескольких слоёв для первого поколения продуктов. Intel пока ещё не решила, сколько слоёв при производстве процессоров будет обрабатывать при помощи EUV-оборудования. Для серийного производства у EUV-сканеров пока слишком продолжительные периоды простоя из-за необходимости технического обслуживания. Чтобы сократить время простоя до 10% и менее, как у действующего литографического оборудования, Intel нужно будет плотно работать не только с ASML, но и с поставщиками фоторезистивных материалов.
В перспективе, Intel надеется расширить применение EUV-литографии при производстве 3-нм изделий и более поздних. Однако, этот путь не будет лёгким, как показывают первые этапы освоения литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением.
